هدف Sputtering هو أهم عامل لتحديد عائد أشباه الموصلات. تطبق ذلك على أشباه الموصلات والدرجة الدقيقة المطلوبة، هي أعلى نقاء، درجة نقاء المواد المستهدفة المستهدفة، وسوف تؤثر بشكل مباشر على أداء أشباه الموصلات، فإن اختلاف المواد المستهدفة هو العواقب الأكثر مباشرة تسبب في دائرة أشباه الموصلات اقرأ المزيد »

1. إن مواد التسجيل المغناطيسية عالية الكثافة يمكن أن تحسن بشكل كبير من أداء الشريط والأقراص الصلبة والقصيرة ذات السعة الكبيرة باستخدام مزايا كثافة التسجيل العالية، والإكفاءات العالية (تصل إلى 119.4ka / m) نسبة عالية من الإشارة إلى الضوضاء مقاومة الأكسدة الجيدة من مسحوق نانو الكوبالت؛ 2. السائل المغناطيسي مع الحديد، والكوبالت، والنيكل وإنتاج مسحوق سبيكة من أداء ممتاز، يمكن استخدامها على نطاق واسع في امتصاص الصدمات الختم، تنظيم الصوت، عرض الضوء، إلخ؛ اقرأ المزيد »

يحتوي أكسيد الزنك على فجوة كبيرة من النطاق والطاقة الملزمة Exciton، والشفافية العالية، وأداء التلألؤ الممتاز في درجة حرارة الغرفة، وتم استخدامها في مجال أشباه الموصلات لعرض الكريستال السائل، والترانزستورات الأفلام الرفيعة، والثنطيات الباعثة للضوء وغيرها من المنتجات. بالإضافة إلى ذلك، كواحد من النانومي، بدأ أكسيد الزنك الميكرولي أيضا في لعب دور في المجالات ذات الصلة. اقرأ المزيد »

تحتوي سبائك Tantalum و Tantalum على مزايا نقطة انصهار عالية، ومقاومة التآكل الجيدة، وقوة درجة حرارة عالية ممتازة، وأداء بالقطع الجيد، والحامل، والبلاستيك المنخفضة / الانتقال من البلاستيك / هش وخصائص ميكانيكية ديناميكية ممتازة. يستخدم على نطاق واسع في مجال الإلكترونيات والأسلحة والصناعة الكيميائية ونظام الطاقة النووية الفضائية، وما إلى ذلك. إنها مادة هيكلية مثالية للعمل في 1600 ℃ ~ 1 800 ℃. اقرأ المزيد »

الأكسيد المغنيسيوم الخفيف هو منتج إنتاج على نطاق واسع، وعملية إنتاج أكسيد المغنيسيوم الخفيف هي صديقة للبيئة للغاية، وعملية الإنتاج المحلي الأكثر تقدما لأكسيد المغنيسيوم الخفيف عموما على النحو التالي: 1. يتم تحويل أكسيد المغنيسيوم الخفيفة في دوارة تقليدية تكلفة الفرن مع هيدروكسيد المغنيسيوم كمواد خام الرئيسية؛ اقرأ المزيد »

ما هي المزايا الرئيسية وعيوب CVD؟ يستخدم CVD واحدا أو أكثر من الغازات لتفاعل كيميائيا على الركيزة الصلبة الساخنة ولمعطفها مع فيلم صلب. المزايا: 1. متطلبات درجة الفراغ ليست عالية، حتى لا تحتاج فراغ، مثل طلاء الرش الساخن؛ 2. معدل الترسب السريع، يمكن أن تصل CVD الغلاف الجوي إلى 1μm / دقيقة؛ 3. مقارنة مع PVD. التركيب الكيميائي أو طلاء سبيكة أسهل لتحقيقه؛ اقرأ المزيد »

في الوقت الحاضر، اجتذبت كل من إنتاج وتطبيق المواد النانوية الاهتمام انتباه جميع البلدان. لقد أحدثت تقنية النانو في الصين تقدما مستمرا، في مستوى Nano-level Sio2، TIO2، AL2O3، ZNO2، FE2O3، مواد مسحوق أخرى، إنتاج إنتاج صناعي ناجح، ولكن عملية الإنتاج الحالية، تكلفة الإنتاج العالية هي ضعفها القاتل، سيؤثر على ذلك تعزيز وتطبيق المواد النانوية، لذلك يجب أن نستمر في التحسن. اقرأ المزيد »

هدف التنجستن العالي النقاء هو ركيزة مهمة لانتقال فيلم أكسيد التنغستن في أجهزة أشباه الموصلات. نظرا لنقطة انصهار عالية من التنغستن، فإن أهداف التنغستن هي أساسا من المعادن مسحوق. تتضمن طريقة الإعداد نقاء 99.999٪ أو أكثر، حجم الجسيمات البالغة 3.2 ميكرومتر مسحوق التنجستن 3.2μm للخلط الموحد، وضعت في فرن المعالجة الحرارية الفراغية ل Degringing مسبقا، ثم إلى الهيدروجين، مواصلة خطوات إزالة التدفئة اقرأ المزيد »

تطبيق المواد النانوية في المجالات المختلفة النانوية لها تأثير حجم، وتأثير السطوح، وتأثير حجم الكم، وتأثير النفق الكمي الكمي وهلم جرا، مما يجعلها خصائصها الحالية التي لا تملك المواد التقليدية في الكهرباء، والمغناطيسية، والجوانب الأخرى وغيرها. قام العلماء والمهندسون بحل العديد من المشاكل الفنية باستخدام الخصائص الخاصة من المواد النانوية الخاصة. اقرأ المزيد »

استنادا إلى أجهزة السيليكون على التصميم والتطوير، فقد خضعت تطوير العديد من أجيال من الهيكل والتجديد والتجديد تدريجيا، على مقربة تدريجيا من حدود مادة السيليكون، بناء على إمكانية تحسين أداء أجهزة السيليكون أكثر وأكثر قليلا غاليوم نيتريد، كربيد السيليكون كممثل للجيل الثالث من أشباه الموصلات لديها خصائص مادية ممتازة للمواد من أجل تحسين أداء جهاز إلكترونيات الطاقة يوفر مساحة أكبر. اقرأ المزيد »

تشمل البحث والتطبيق من الأرض النادرة في المواد الوظيفية بشكل أساسي نانوموالات أرضية نادرة، والأرض النارية غير النادرة، وتطبيق الأرض النادرة في البوليمرات الوظيفية، ودراسة مثبتات حرارية نادرة تستند إلى الأرض والأداء الضبابي الخاص به، والإعداد والأداء من محفز Earth NanaLoy النادر النادر، والذي يستخدم بشكل رئيسي في مواد تخزين الهيدروجين وصناعة تطبيقات الطاقة الهيدروجينية. اقرأ المزيد »

Magnetron Sputtering Coating هي طريقة طلاء من طراز الغاز الجسدي الجديد، والتي تتمثل في استخدام نظام بندقية الإلكترون لإبعاد الإلكترونات والتركيز على المواد المغلفة، بحيث تتبع ذرات Sputtering مبدأ تحويل الزخم على الطيران بعيدا عن المواد ذات الحركية العالية الطاقة لفيلم ترسب الركيزة. هذه المواد مطلي تسمى هدف الاخرق. اقرأ المزيد »

Zirconium Boride عبارة عن مادة مشتركة في البوريقات، وهناك ثلاثة أنواع من بوريد الزركونيوم في نظام البورون الزركونيوم، على التوالي، الزركونيوم مونوبوريد (ZRB)، ديبوريد الزركونيوم (ZRB2) والزركونيوم اثني عشر بورايد (ZRB12). ومع ذلك، بسبب الاستقرار الجيد في Diboride الزركونيوم في نطاق درجة حرارة واسعة، وبالتالي فإن الإنتاج الصناعي لبوريد الزركونيوم هو في الغالب زركونيوم Diboride كمكون رئيسي. اقرأ المزيد »

كربيد البورون، المعروف أيضا باسم الماس الأسود، هو شكل عضوي. النموذج الجزيئي هو B₄C. عادة ما يكون مسحوقا غريبا غريبا. إنها واحدة من أصعب المواد الثلاثة المعروفة (والآخرون هي نتريد البورون الماس والماس المكعب) وتستخدم في العديد من التطبيقات الصناعية. لديها صلابة محس من 9.3. إذن ما هي الخصائص والخصائص الكيميائية لبورون كربيد؟ اقرأ المزيد »

ما هي الحالات التي يحتاجها المساحيق المعدنية للقاء من أجل تلبية متطلبات مواد الطباعة ثلاثية الأبعاد؟ سوف تقلل شائعات السيراميك بشكل كبير من أداء المنتج النهائي، وهذه الادراج عموما لديها نقطة انصهار عالية ويصعب أن تكون متكلفة، لذلك لا يجب أن تكون أي شمول من السيراميك في المسحوق. اقرأ المزيد »