المواد المستهدفة التنجستن عالية النقاء (تصنيع رقاقة)

تطبيق Tungsten الاخرق الهدف

عالية النقاءهدف التنغستنهي ركيزة مهمة لانتقال فيلم أكسيد التنغستن في أجهزة أشباه الموصلات. نظرا لنقطة انصهار عالية من التنغستن، فإن أهداف التنغستن هي أساسا من المعادن مسحوق. تتضمن طريقة الإعداد نقاء 99.999٪ أو أكثر، حجم الجسيمات البالغة 3.2 ميكرومتر من مسحوق التنجستن 3.2μm للخلط الموحد، وضعت في فرن المعالجة الحرارية الفراغية لإغراء ما قبل الغضب، ثم إلى الهيدروجين، مواصلة خطوات إزالة التدفئة؛ مسحوق التنغستن المجفف من خلال الفراغ الساخنة الضغط لإكمال خطوة التبريد؛ تم الانتهاء من عملية التخميل الثانية من قبل الصحافة الساخنة isostatic بعد التبديل الأول. من خلال طحن سطح كله من صفيحة التنغستن المكلورة الثانية من خلال تصنيع المواد المستهدفة والتنجستن عالية النقاء مع نقاء 99.999٪ وكثافة بنسبة 99٪ وما فوق لصالح أشباه الموصلات، والتي لديها مزايا النقاء العالي والكثافة العالية والمقاومة المنخفضة.

إن نقاء هدف التنغستن في دائرة أشباه الموصلات نصف أشباه الموصلات لديها متطلبات عالية، عموما يجب أن تكون الطهارة المستهدفة أعلى من 99.999٪. في الوقت نفسه، فإن كثافة الهدف لها أيضا تأثير مهم على عملية الطلاء وأداء الفيلم، وكثافة الهدف لا يؤثر فقط على معدل الترسب، وكثافة جزيئات السينما الاخرق وظاهرة التفريغ، ولكن يؤثر أيضا على الخصائص الكهربائية والبصرية لفيلم الاخرق. الكثافة الهدف، وخفض كثافة جزيئات السينما الاخرق، والأضعف ظاهرة التفريغ، وأفضل أداء الفيلم.

فقط عدد قليل من الشركات في الولايات المتحدة واليابان أتقنت تكنولوجيا التصنيع لأهداف التنغستن المستخدمة في تصنيع رقاقة. لحسن الحظ، مع دعم \"صنع في الصين 2025 \" السياسة، عاد أكثر وأكثر الموهوبين إلى الصين لبدء أعمالهم التجارية، وجلبهم من الخبرة التكنولوجية المتقدمة وخلق أجواء أفضل للبحث والتطوير. لم ينته هذا فقط تاريخ المواد المستهدفة المعدنية الاهتمام بالاعتماد على الواردات، ولكن دخلت أيضا أول Echelon في العالم في هذا المجال.