ما هو ترسب البخار الكيميائي (CVD)؟

ما هي المزايا الرئيسية وعيوب CVD؟

CVDيستخدم غازات واحدة أو أكثر لتفاعل كيميائيا على ركيزة قوية ساخنة ولمعطفها مع فيلم صلب.

مزايا:

1. متطلبات درجة الفراغ ليست عالية، حتى لا تحتاج فراغ، مثل طلاء الرش الساخن؛

2. معدل الترسب السريع، يمكن أن تصل CVD الغلاف الجوي إلى 1μm / دقيقة؛

3. مقارنة مع PVD. التركيب الكيميائي أو طلاء سبيكة أسهل لتحقيقه؛

4. تكوين الطلاء متنوع، مثل المعادن وغير المعدنية، وأشباه الموصلات، المواد الكهروضوئية، فيلم الماس؛

5. يمكن أن يكون في الشكل المعقد لطلاء الركيزة، حتى في السيراميك المسامية؛

6. توحيد السماكة جيدة، يمكن أن تؤدي CVD منخفضة الجهد إلى الطلاء العشرات من الرقائق في نفس الوقت.

سلبيات:

1. لا يتم فهم آليات الدينامدة الحرارية والتفاعل الكيميائي أو فهمها بشكل سيء؛

2. يجب أن تنفذ في درجة حرارة عالية، وبعض الركيزة لا يمكن أن تصمد أمام تأثير الطلاء؛

3. قد يكون غاز التفاعل تآكل أو سامة أو متفجرة، لذلك كن حذرا عند التعامل معها؛

4. قد تبقى منتجات التفاعل على الطلاء وتصبح شوائب؛

5. التدريع من الركيزة أمر صعب.