ما هو الهدف الاخرق؟

Magnetron Sputtering Coating هي طريقة طلاء من طراز الغاز الجسدي الجديد، والتي تتمثل في استخدام نظام بندقية الإلكترون لإبعاد الإلكترونات والتركيز على المواد المغلفة، بحيث تتبع ذرات Sputtering مبدأ تحويل الزخم على الطيران بعيدا عن المواد ذات الحركية العالية الطاقة لفيلم ترسب الركيزة. هذه المواد مطلي تسمىهدف الاخرق.

تطبيق فرق الهدف

Sputtering هي واحدة من التكنولوجيا الرئيسية لإعداد مواد الأفلام الرفيعة، مما يجعل مصدر أيون، مصدر أيون من خلال تسريع تم جمعه في فراغ، ويمكن أن يكون تشكيل سرعة عالية شعاع أيون، قصف السطح الصلب والأيونات الصلبة تبادل الزخم الذري السطحي، من الصلبة الذرية السطحية الصلبة والودود في السطح القاعدي، القصف الصلب هو الاخرق فيلم ترسب المواد الخام. يطلق عليه الاخرق المواد المستهدفة. تم استخدام أنواع مختلفة من تفكيك مواد الأفلام الرفيعة على نطاق واسع في دوائر أشباه الموصلات، وسجل الوسائط، وعرض مستو و طلاء سطح الشغل. تسبب درجة الحرارة المرتفعة وبيئة الفراغ المرتفعة في غرفة التفاعل هذه الذرات المعدنية لتشكيل الحبوب، والتي يتم بعد ذلك بواسطة micropatterned وكتظمها في طبقات من الأسلاك المعدنية التي تنقل البيانات الموجودة على الشريحة.

يستخدم هدف Spuperting بشكل أساسي في صناعة الإلكترونيات والمعلومات، مثل الدوائر المتكاملة وتخزين المعلومات وعرض الكريستال السائل والذاكرة الليزرية وأجهزة التحكم الإلكترونية، إلخ. يمكن استخدامه أيضا في مواد مقاومة للاهتراء، ومقاومة تآكل درجة حرارة عالية، ومنتجات ديكور عالية الجودة وغيرها من الصناعات.